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共 3 款设备
采用常温催化剂技术,通过化学反应和物理吸附,将进气纯度 5N 工艺气体中的 H₂O、O₂、CO、CO₂、H₂、NMHC 等杂质去除到 1 ppb 以下。
适用于大流量工艺气体的纯化系统,吸附剂可在原位自动再生,无需返厂。
在原位再生纯化系统的基础上可去除 CH₄,适用于氮气和氩气。