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共 23 款设备
专为可燃性、腐蚀性、毒性等电子特气供应设计的气体供应设备，用于电子特气安全、稳定输送。
用于半导体、LCD、微电子及太阳能行业的特殊气体输送系统，多用于有毒、可燃、腐蚀性和稀有气体。
大流量电子特气供应设备，可安全、稳定、持续不间断地提供超大流量电子特气输送。
用于惰性电子特气的输送，可实现稳定、连续的气体供应。
气体供应系统的分配箱，把电子特气从主管路分成多个支路，经二次配管安全、稳定地供应到生产设备。
大宗特气供应系统的一级分流设备，将大宗特气主管路分成若干次级主管路，用于大流量电子特气供应。
专门用于液态前驱体的输送，如 TMA、TEOS 等，确保安全、稳定、连续地为下游工艺供应前驱体。
酸碱化学品自动供液系统，用于半导体、太阳能、液晶面板、光纤等生产领域。
化学品自动充填设备，用于半导体、太阳能、液晶面板、光纤等生产领域。
有机化学品自动供液系统，用于半导体、太阳能、液晶面板、光纤等生产领域。
有机化学品分流设备，用于集成电路、LED、TFT、光纤等行业。
酸碱化学品分流设备，用于半导体、太阳能、液晶面板、光纤等生产领域。
利用吸附剂的范德华力吸附有害气体，把无毒无害气体排放于大气。
处理易燃易分解、且分解后产物易溶于水的气体。
处理自燃、易燃易爆的气体。
以电加热分解后水洗，处理易燃易分解、且分解后产物易溶于水的气体。
在其他处理方式都不适用时采用，处理的气体一般含氟；电极加热产生的高温分解对象气体，分解后再冷却，使排出气体达到温度和排放要求。
采用 PSA 与 TSA 相结合的两级制氮工艺，压缩空气经一体机后直接产出 5N–7N 高纯氮气，可替代钢瓶、杜瓦罐和液氮储罐等供氮方式。
采用常温催化剂技术，通过化学反应和物理吸附，将进气纯度 5N 工艺气体中的 H₂O、O₂、CO、CO₂、H₂、NMHC 等杂质去除到 1 ppb 以下。
适用于大流量工艺气体的纯化系统，吸附剂可在原位自动再生，无需返厂。
在原位再生纯化系统的基础上可去除 CH₄，适用于氮气和氩气。
上海韩科科技股份有限公司
